化工業uv光催化氧化凈化設備采用高強度納米紫外線破壞、分解大分子鏈為小分子鏈，再利用臭氧和羥基自由基氧化、催化劑進行催化氧化，使有機物變為水和二氧化碳，以達到去除有機物的目的。

UV光解氧催化凈化無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使氣體通過本設備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應。可適應高濃度，大氣量，不同有機化學氣體物質的凈化處理，可每天可長時間連續工作，運行穩定可靠。

由于半導體的光吸收閾值與帶隙具有式K=1240/Eg(eV)的關系,因此常用的寬帶隙半導體的吸收波長閾值大都在紫外區域。當光子能量高于半導體吸收閾值的光照射半導體時,半導體的價帶電子發生帶間躍遷,即從價帶躍遷到導帶,從而產生光生電子(e-)和空穴(h+)。此時吸附在納米顆粒表面的溶解氧俘獲電子形成超氧負離子,而空穴將吸附在催化劑表面的氫氧根離子和水氧化成氫氧自由基。而超氧負離子和氫氧自由基具有很強的氧化性,能將絕大多數的有機物氧化至產物CO2和H2O,甚至對一些無機物也能   分解。

化工業uv光催化氧化凈化設備UV光解催化氧氣廢氣處理技術設備是以紫外線光為能源，配合納米TiO2位催化劑，將有機物降解為CO2和 H2O及其它無害成分，使廢臭氣體處理后達標排放。

uv光催化氧化廢氣處理設備，光氧催化氧化 利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射廢氣，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，與臭氧進行反應生成低分子化合物，如CO2、H2O等。投資費低，適用范圍廣，凈化效率高，操作簡單，除臭效果好，設備運行穩定，占地小，運行費用低，隨用隨開，不會造成二次污染。